چه چیزی سرامیک Al2O3 با خلوص بالا را برای تجهیزات پردازش نیمه هادی مناسب می کند؟

در داخل یک کارخانه ویفر، آلودگی در قسمت در میلیارد اندازه‌گیری می‌شود. ماده‌ای که یک ذره فلزی را جدا می‌کند یا سدیم را به داخل محفظه فرآیند نشت می‌دهد، می‌تواند یک بچ کامل را خراب کند. به همین دلیل است که سرامیک آلومینای با خلوص بالا به یک ماده استاندارد برای نگهدارنده‌ها، گیره‌ها، محفظه‌ها و گذرگاه‌ها تبدیل شده است. این مقاله توضیح می‌دهد که چه چیزی سرامیک آلومینای با خلوص بالا را برای تجهیزات پردازش نیمه‌هادی مناسب می‌سازد و کدام ارقام را خریدار باید تأیید کند.پرسش مشتری: "چرا از آلومینای استاندارد استفاده نکنیم؟"آلومینای استاندارد ۹۶٪ یک عایق الکتریکی خوب است، اما حاوی یک فاز چسبنده شیشه‌ای با سدیم، کلسیم و سایر عناصر کمیاب است. تحت پلاسما و بایاس بالا، این عناصر از سطح مهاجرت کرده و ویفر را آلوده می‌کنند. سرامیک اکسید آلومینیوم با خلوص بالا — معمولاً آلفا آلومینای ۹۹.۵٪ یا بهتر — چسبنده را حذف می‌کند، بنابراین سطح حتی در شیمی‌های تهاجمی فلوئور و کلر بی‌صدا باقی می‌ماند.چرا خلوص و چگالی با هم اهمیت دارندخلوص به تنهایی کافی نیست. بدنه همچنین باید کاملاً متراکم باشد، با تخلخل باز صفر. منافذ باز گاز فرآیند را به دام می‌اندازند، به داخل محفظه خارج می‌شوند و ذراتی را نگه می‌دارند که بعداً روی ویفر می‌ریزند. ریزساختار متراکم و خالص سه مزیت را همزمان ارائه می‌دهد: عدم خروج گاز، حداقل تولید ذرات و مقاومت الکتریکی بالا که حتی در دمای فرآیند بالا باقی می‌ماند. استحکام خمشی بالا اجازه می‌دهد هندسه‌های نازک و مسطح که ویفر را بدون افتادگی پشتیبانی می‌کنند.نحوه مشخص کردنحداقل خلوص (۹۹.۵٪ یک نقطه ورود رایج است) و حداکثر مقدار کل ناخالصی را تعیین کنید.

صفر تخلخل باز و چگالی اندازه‌گیری شده نزدیک به تئوری را الزامی کنید.

پردازش سطح را بر اساس فرآیند تعریف کنید: سنگ‌زنی شده اغلب کافی است، در حالی که قطعات رو به پلاسما نیاز به یک سطح پولیش شده با زبری کم دارند.صافی را برای سطوح تماس ویفر مشخص کنید تا ضخامت فیلم یکنواخت باقی بماند.داده‌های بازرسی و بسته‌بندی اتاق تمیز را قبل از انتشار اولین قطعه تأیید کنید.

کاربردها

قطعات معمول شامل صفحات نگهدارنده با خلوص بالا برای پردازش ویفر، گیره‌های ویفر آلومینای پولیش شده و ویفرها و زیرلایه‌های آلومینا برای مدارهای فیلم نازک است که همگی طبق نقشه با قابلیت ردیابی شماره سریال تولید می‌شوند.

مشخصات مرجع خلوص بالا

• پارامتر
• مقدار
• مبنا
• محتوای آلومینا
• ۹۹.۵٪ Al2O3

(P)

کل ناخالصی‌ها< 5000 ppm(P)چگالی3.92 g/cm3(P)تخلخل باز

0%